焦点の視覚的注意による後方パターンのマスキングの変調

後方パターンのマスキングに対する焦点視覚的注意の効果は、方向識別タスクを使用して調査されました。結果は、注意が主に中断マスキングの効果を減らすことを示しています。これは、ターゲットとマスクの開始の間の遅延が約50〜150ミリ秒である場合に発生するパターンマスキングの後のコンポーネントです。最も強力な空間的キューイング効果、つまり、焦点の注意による方向識別のしきい値の最強の減少は、中間（約100ミリ秒）ターゲットからマスクへの刺激開始非同期（SOA）で観察されました。短いSOAでキューイングの弱い効果があり、パターンマスキング効果が存在しない、より長いターゲットからマスクまでのSOAには、非常に弱い注意効果が存在しませんでした。後方パターンマスキングの注意変調のダイナミクスは、初期の視覚皮質におけるニューロン応答の注意変調のダイナミクスと密接に相関しています。

The effect of focal visual attention on backward pattern masking was investigated using an orientation discrimination task. The results show that attention reduces primarily the effect of interruption masking, the later component of pattern masking, which occurs when the delay between the target and mask onset is about 50-150 ms. The strongest spatial cueing effect, i.e. the strongest reduction of the orientation discrimination threshold due to focal attention, was observed at intermediate (approximately 100 ms) target-to-mask stimulus onset asynchrony (SOA). There was a weak effect of cueing at shorter SOAs, and no or a very weak attentional effect was present at longer target-to-mask SOAs, where the pattern masking effect is absent. The dynamics of attentional modulation of backward pattern masking correlates closely with the dynamics of the attentional modulation of neuronal responses in the early visual cortex.