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組換え中国のハムスター卵巣（CHO）細胞株を使用して、ヒト化抗体を発現させました。このヒト化抗体の製品品質分析では、FAB領域の対立するシステイン残基による遊離チオールの存在が示されました。このチオールファブの効力の低下により、遊離チオールのレベルを最小限に抑えることが重要になりました。これを行うために、細胞培養産生培地への銅硫酸銅添加の効果を評価しました。生産培地の成分として、硫酸銅は酸化剤として作用し、それによりジスルフィド結合形成を促進できます。組換えCHO細胞株の2-Lベンチトップ生産培養の開始時に、硫酸銅の4つの濃度を加えました：0、5、50、および100 microM。これらの硫酸銅の添加は、細胞の成長や抗体産生に影響を与えないことがわかりました。しかし、培養生存率におけるわずかな用量依存性のうつ病が観察されました。精製抗体の分析により、50または100ミクロム硫酸銅の添加のいずれかが遊離チオールのレベルを10倍以上低下させることが示されました。
組換え中国のハムスター卵巣（CHO）細胞株を使用して、ヒト化抗体を発現させました。このヒト化抗体の製品品質分析では、FAB領域の対立するシステイン残基による遊離チオールの存在が示されました。このチオールファブの効力の低下により、遊離チオールのレベルを最小限に抑えることが重要になりました。これを行うために、細胞培養産生培地への銅硫酸銅添加の効果を評価しました。生産培地の成分として、硫酸銅は酸化剤として作用し、それによりジスルフィド結合形成を促進できます。組換えCHO細胞株の2-Lベンチトップ生産培養の開始時に、硫酸銅の4つの濃度を加えました：0、5、50、および100 microM。これらの硫酸銅の添加は、細胞の成長や抗体産生に影響を与えないことがわかりました。しかし、培養生存率におけるわずかな用量依存性のうつ病が観察されました。精製抗体の分析により、50または100ミクロム硫酸銅の添加のいずれかが遊離チオールのレベルを10倍以上低下させることが示されました。
A recombinant Chinese hamster ovary (CHO) cell line was used to express a humanized antibody. Product quality analysis of this humanized antibody showed the presence of free thiol, due to unpaired cysteine residues in the Fab region. Decreased potency of this thiol Fab made it critical to minimize the levels of free thiol. In an effort to do this, we evaluated the effect of copper sulfate addition to the cell culture production medium. As a component of the production medium, copper sulfate can act as an oxidizing agent, thereby facilitating disulfide bond formation. Four concentrations of copper sulfate were added at the beginning of 2-L benchtop production cultures of the recombinant CHO cell line: 0, 5, 50, and 100 microM. We found that these copper sulfate additions had no effect on cell growth or antibody production. However, a slight dose-dependent depression in culture viability was observed. Analysis of the purified antibody showed that either the 50 or 100 microM copper sulfate additions reduced the level of free thiol by more than 10-fold.
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