フィルムの質量密度の関数としてのSIO2、ZRO2、およびHFO2の薄膜の屈折率

一連のアモルファスSIO2、ZRO2、およびHFO2フィルムは、包装密度が0.6から0.82まで変化するように、さまざまな酸素圧での電子ビーム蒸発により調製されました。干渉式および誘電モデリングにより、分析式を適用することにより、厚さと屈折率に関して透過スペクトルを評価しました。フィルムの厚さは150〜1500 nmの範囲でした。CauchyおよびSellmeier分散曲線の係数は、梱包密度の関数として決定されました。コンパクトなアモルファス粒子の質量密度は、有効中学理論と一般的な屈折率によって推定されました。結晶材料のものに似ています。光学データを使用して、UVを含む広いスペクトル範囲のレーザーアプリケーション用の多層コーティングを設計しました。

Series of amorphous SiO2, ZrO2 and HfO2 films were prepared by electron-beam evaporation at various oxygen pressures such that the packing density varied from 0.6 to 0.82. Transmittance spectra were evaluated with respect to thickness and refractive index by application of analytical formulas to the interference extrema and by dielectric modeling. The thickness of the films ranged from 150 to 1500 nm. The coefficients of Cauchy and Sellmeier dispersion curves were determined as a function of the packing density. The mass density of the compact amorphous grains was estimated by an effective-medium theory and a general refractivity formula. It is similar to those of the crystalline materials. We used the optical data to design multilayer coatings for laser applications in a broad spectral range, including the UV.