生理学的pHでのボロン酸アフィニティクロマトグラフィーのためのスルホンアミドおよびスルホニル - フェニルボロン酸修飾シリカ相の合成

2つの新しいタイプのボロン酸アフィニティの固相が合成され、特徴付けられました。この材料は、合成スルホニルおよびスルホンアミド置換フェニルボロン酸を含むモノクロロシラン誘導体を含む多孔質シリカゲルのシリル化によって調製されました。新しい固形相は、アリールおよびアルキルシスジオール化合物によるボロン酸アフィニティクロマトグラフィーについて評価され、酸性条件下でのシスジオールの保持に適していることがわかった。保持因子（k）と移動相のpHの間の有意な相関は、Cis-diolsの固相への結合がキレート化によって最も合理化されることを示しています。スルホニルおよびスルホンアミド基の電子吸引効果によって引き起こされる下部PKAに基づいて、これらの培地は、覆われていないフェニルボロン酸と比較して、シスジオールに対する親和性の強化を示しています。Isocratic溶出を使用して、さまざまな生物学的に関連するL-チロシン、L-DOPA、およびいくつかのカテコールアミンの混合物を、0.05mのリン酸緩衝液（pH 5.5）で構成される移動相で分離しました。アデノシンのモノ、ジ、および三リン酸塩もpH 6.0で分離されました。したがって、新しいホウ酸塩固相は、かなり軽度のpH条件下でのシスジオール含有分子の効率的な親和性分離と精製を提供します。

Two new types of boronate affinity solid phases were synthesized and characterized. The materials were prepared by silylation of porous silica gel with monochlorosilane derivatives containing synthetic sulfonyl- and sulfonamide-substituted phenylboronic acids. The new solid phases were evaluated for boronate affinity chromatography with aryl and alkyl cis-diol compounds and were found to be suitable for the retention of cis-diols under acidic conditions. Significant correlations between the retention factor (K) and the pH of the mobile phase demonstrate that the binding of cis-diols to the solid phases is best rationalized by chelation. Based on the lower pKa, caused by the electron-withdrawing effects of the sulfonyl and sulfonamide groups, these media display an enhanced affinity for cis-diols as compared with unsubstituted phenylboronic acid. Using isocratic elution, a mixture of various biologically relevant l-tyrosines, l-DOPA, and several catecholamines were resolved with a mobile phase composed of 0.05M phosphate buffer (pH 5.5). Mono-, di-, and triphosphates of adenosine were also separated at pH 6.0. Hence, the new boronate solid phase offers efficient affinity separation and purification of cis-diol-containing molecules under rather mild pH conditions.