回折ビーム干渉法/ホログラフィを使用した電子ビームコヒーレンス測定

弾性および非伸長電子の強度とコヒーレンスは、回折ビーム干渉測定/ホログラフィ（DBI/H）の方法を使用して、電子分解ビームの干渉によって研究されています。生成されたインターフェログラムでは、フリンジが低いものから高い散乱角まで存在することがわかりました。フリンジの強度とコヒーレンスは、透過型電子顕微鏡（TEM）および環状暗黒場（ADF）走査透過容量電子顕微鏡（STEM）によって生成される結晶の原子分解能画像に見られる実験的画像とシミュレーション画像のコントラストの不一致を理解するのに役立ちます。干渉ビームが正確なオーバーレイ位置から分離されているとフリンジは消え、ビームの横方向のコヒーレンスの測定を生成し、エネルギー損失電子に関連するそれぞれの準粒子のコヒーレンスを測定することを約束します。

The intensity and coherence of elastically and inelastically scattered electrons have been studied by the interference of electron-diffracted beams using a method of diffracted beam interferometry/holography (DBI/H). In the interferograms produced, fringes were found to exist from low to high scattering angles. The intensity and coherence of the fringes are useful for understanding the contrast mismatch between experimental and simulated images found in atomic resolution images of crystals produced by transmission electron microscopy (TEM) and annular dark-field (ADF) scanning transmission electron microscopy (STEM). The fringes disappear when the interfering beams are separated from an exact overlay position, which produces a measurement of the beam's lateral coherence and holds promise for measuring the coherence of the respective quasi-particles associated with the energy loss electrons.