トリエチルシリルエーテルの化学選択的脱保護

メタノール（5-10％）または塩化メチレン2〜5％）で形成酸を使用して、優れた収率を使用して、トリエチルシリル（TES）エーテルを使用して、効率的で選択的な方法が開発されました。TESエーテルは、軽度の反応条件下でメタノール中の形成酸を使用して、高収量で対応するアルコールに対して選択的に脱却されます。T-Butyldimethylsilyl（TBDMS）のような他のヒドロキシル保護群は影響を受けません。

An efficient and selective method was developed for the deprotection of triethylsilyl (TES) ethers using formic acid in methanol (5-10%) or in methylene chloride 2-5%) with excellent yields. TES ethers are selectively deprotected to the corresponding alcohols in high yields using formic acid in methanol under mild reaction conditions. Other hydroxyl protecting groups like t-butyldimethylsilyl (TBDMS) remain unaffected.