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ターゲット表現を置き換えるマスク表現(OSM)がオブジェクト配分マスキング(OSM)がターゲット表現を置き換えることから生じる場合、OSMは視覚的な短期メモリ(VSTM)に表現の形成を妨げるはずです。イベント関連のポテンシャルを利用して、ターゲット処理に対するOSMの効果を調べました。N2PCは、遅延オフセットマスクを伴う試験で観察され、集中的な注意がターゲットに向けられたことを示しています。VSTMストレージのインデックスである持続的な反対側の否定性(SPCN)は、正しい応答を伴う試験でのみ遅延オフセット試験で観察されました。これは、遅延オフセット試験での不正確なパフォーマンスがVSTMでターゲットをエンコードできなかったことから生じるという仮説を裏付けています。共同終了試験では、精度が高く、N2PCもSPCNも観察されませんでした。これは、マスキングがない場合、潜在的なターゲットアイテムのジョイントエンコーディングを可能にする拡散注意状態を維持することにより、タスクが達成されたことを示しています。
ターゲット表現を置き換えるマスク表現(OSM)がオブジェクト配分マスキング(OSM)がターゲット表現を置き換えることから生じる場合、OSMは視覚的な短期メモリ(VSTM)に表現の形成を妨げるはずです。イベント関連のポテンシャルを利用して、ターゲット処理に対するOSMの効果を調べました。N2PCは、遅延オフセットマスクを伴う試験で観察され、集中的な注意がターゲットに向けられたことを示しています。VSTMストレージのインデックスである持続的な反対側の否定性(SPCN)は、正しい応答を伴う試験でのみ遅延オフセット試験で観察されました。これは、遅延オフセット試験での不正確なパフォーマンスがVSTMでターゲットをエンコードできなかったことから生じるという仮説を裏付けています。共同終了試験では、精度が高く、N2PCもSPCNも観察されませんでした。これは、マスキングがない場合、潜在的なターゲットアイテムのジョイントエンコーディングを可能にする拡散注意状態を維持することにより、タスクが達成されたことを示しています。
If object-substitution masking (OSM) arises from mask representations replacing target representations, OSM should impede the formation of representations in visual short-term memory (VSTM). We utilized event-related potentials to examine the effect of OSM on target processing. An N2pc was observed on trials with delayed-offset masks, indicating that focused attention was directed to the target. The sustained posterior contralateral negativity (SPCN), an index of VSTM storage, was observed in delayed-offset trials only on trials with correct responses. This supports the hypothesis that inaccurate performance on delayed-offset trials arises from a failure to encode the target in VSTM. On co-termination trials, accuracy was high and neither the N2pc nor SPCN was observed. This indicates that, in the absence of masking, the task was accomplished by maintaining a diffuse attentional state that enabled the joint encoding of the potential target items.
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