DNA損傷剤によって一般的に生成されるラジカルから二本鎖切断

二本鎖切断は、DNA損傷の最も有毒な形態であると広く受け入れられています。単一の化学イベントを介して二本鎖切断を生成する分子は、通常非常に細胞毒性があり、一本鎖切断を形成するものよりもはるかに一般的ではありません。最近、一般的に形成されたC4'-radicalが好気性条件下で二本鎖切断を生成することが報告されました。本明細書に記載されている実験は、ペルオキシルラジカルがC4'-水素原子抽出を介して相補的鎖の鎖損傷を開始することを示しています。推論的証拠は、C3'-ペルオキシルラジカルがC4'-ペロキシルラジカルよりも効率的に相補的な鎖損傷を誘導することを示唆しています。ペルオキシルラジカルによる相補的な鎖水素原子抽出は、チオールによって効率的に消光されます。このメカニズムは、電離放射線によって生成される二本鎖切断の予想よりも高い収率に寄与する可能性があります。

Double-strand breaks are widely accepted to be the most toxic form of DNA damage. Molecules that produce double-strand breaks via a single chemical event are typically very cytotoxic and far less common than those that form single-strand breaks. It was recently reported that a commonly formed C4'-radical produces double-strand breaks under aerobic conditions. Experiments described herein indicate that a peroxyl radical initiates strand damage on the complementary strand via C4'-hydrogen atom abstraction. Inferential evidence suggests that a C3'-peroxyl radical induces complementary strand damage more efficiently than does a C4'-peroxyl radical. Complementary strand hydrogen atom abstraction by the peroxyl radical is efficiently quenched by thiols. This mechanism could contribute to the higher than expected yield of double-strand breaks produced by ionizing radiation.