酸化銅粒子と表面のチオール吸着と還元

エタノールに懸濁した葉状皮質下および銅酸化酸化酸化酸化粒子での室温および75°Cでの1-ドデカネチオールの吸着は、X線光電子分光法（XPS）、ラマン分光法、および透過型電子顕微鏡で調査されています。チオールの吸着は、Cu-S結合形成を介してすべての場合に発生し、75°CでのCuOの部分的な溶解と銅チオール酸複合体置換層の形成とともに発生します。温度に関係なく、CuO粒子の表面は、乾燥粉末サンプルの特徴的なCu（2+）XPS特徴の喪失によって証明されるように、基本的にCu2Oまたは金属銅に完全に縮小されます。コンパニオンウルトラハイバクウム研究は、室温でメタンエチオール（MT）ガスを使用して、きれい、酸素摂取、およびオゾン処理した単結晶CU（111）を投与することにより実施されています。後者の場合、表面はCuO/Cu（111）に対応します。XPSは、すべての場合におけるMT吸着を確認し、162.9±0.1 eVのS 2Pピーク結合エネルギーで、メタンエチオレートの吸着と一致します。MTで覆われたCu（111）および酸素服用Cu（111）の加熱により、MTの分解/脱着が100°C、硫化銅の形成が161.8 eVのS 2P結合エネルギーをもたらします。50〜200 LのMTでCuO/Cu（111）を投与すると、メタンエチオレート吸着の前にCuO表面層が部分的に減少/除去されます。これは、フェルミレベル近くの占有状態を測定する紫外線光電子分光法（UPS）によって確認されます。コロイドCuOと単結晶CuO/Cu（111）の両方の研究では、Cu（2+）表面の還元は、吸着する前に対応するジチオールの形成と脱着によって発生すると考えられています。

The adsorption of 1-dodecanethiol at room temperature and at 75 °C on submicron cuprous and cupric oxide particles suspended in ethanol has been investigated by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), Raman spectroscopy, and transmission electron microscopy. Thiol adsorption occurs in all cases via Cu-S bond formation, with partial dissolution of CuO at 75 °C and formation of a copper-thiolate complex replacement layer. Regardless of temperature, the surface of the CuO particles is essentially completely reduced to either Cu2O or metallic copper, as evidenced by loss of the characteristic Cu(2+) XPS features of dried powder samples. Companion ultrahigh-vacuum studies have been performed by dosing clean, oxygen-dosed, and ozone-treated single crystal Cu(111) with methanethiol (MT) gas at room temperature. In the latter case, the surface corresponds to CuO/Cu(111). XPS confirms MT adsorption in all cases, with an S 2p peak binding energy of 162.9 ± 0.1 eV, consistent with methanethiolate adsorption. Heating of MT-covered Cu(111) and oxygen-dosed Cu(111) leads to decomposition/desorption of the MT by 100 °C and formation of copper sulfide with an S 2p binding energy of 161.8 eV. Dosing CuO/Cu(111) with 50-200 L of MT leads to only partial reduction/removal of the CuO surface layers prior to methanethiolate adsorption. This is confirmed by ultraviolet photoelectron spectroscopy (UPS), which measures the occupied states near the Fermi level. For both the colloidal CuO and single crystal CuO/Cu(111) studies, the reduction of the Cu(2+) surface is believed to occur by formation and desorption of the corresponding dithiol prior to thiolate adsorption.