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Alkenesの地位州および二次アルキルトリフルオロ酸塩および塩化アシルを伴うAlkenesの位置選択的な3成分炭酸化物のためのPhotoredox/Nickelデュアル触媒プロトコルが記載されています。このレドックス中立プロトコルは、ラジカルリレープロセスを介して多様性と複雑さが高いケトンの迅速な合成に適用できます。これらの軽度の条件下で、さまざまな市販の塩化アシル、アルキルトリフルオロ酸塩、およびアルケンを許可する多くの官能基が許容されます。
Alkenesの地位州および二次アルキルトリフルオロ酸塩および塩化アシルを伴うAlkenesの位置選択的な3成分炭酸化物のためのPhotoredox/Nickelデュアル触媒プロトコルが記載されています。このレドックス中立プロトコルは、ラジカルリレープロセスを介して多様性と複雑さが高いケトンの迅速な合成に適用できます。これらの軽度の条件下で、さまざまな市販の塩化アシル、アルキルトリフルオロ酸塩、およびアルケンを許可する多くの官能基が許容されます。
A photoredox/nickel dual catalytic protocol for the regioselective three-component carboacylation of alkenes with tertiary and secondary alkyltrifluoroborates as well as acyl chlorides is described. This redox-neutral protocol can be applied to the rapid synthesis of ketones with high diversity and complexity via a radical relay process. Many functional groups, allowing for various commercially available acyl chlorides, alkyltrifluoroborates, and alkenes, are tolerated under these mild conditions.
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