ホスホン酸修飾タンタル（TA）ドープドープニオブ酸ナトリウム（KNANBO3）-P（VDF-HFP）複合材料の誘電率と電気性能の強化

PA-KNNT-P（VDF-HFP）複合フィルムは、容易なソリューション鋳造技術を使用して合成されました。誘電体系および電気システムでの幅広い用途により、ホスホン酸（PA）を変化させたタンタルムドープニオベートカリウム（KNNT） - フルオリデン共生とフロロプロピレンP（VDF-HFP）コンパイジットフィルムは、学問的な研究者の興味をそそりました。。微細構造分析により、PA層はポリマーマトリックス内のKNNT粒子に組み込まれていることが示されました。PA-KNNT-P（VDF-HFP）複合材は、広範囲の周波数にわたって誘電率と電気性能の改善を示し、P（VDF-HFP）複合材料の誘電率の値はP（P）で≈119に改善されます。vdf-hfp）19 wt。％のフィラーロードでのマトリックス。さらに、PA-KNNT-P（VDF-HFP）コンポジットは、P（VDF-HFP）-KNNT複合材料よりも高い誘電率（≈119）およびAC導電率も明らかにし、抑制された誘電損失（[式]を参照テキスト]を102で維持します。Hz）。また、PA-KNNT-P（VDF-HFP）複合材は、FKNNT = 13.4 wt。％の浸透閾値を持つ絶縁指導コンダクタ遷移を示したことも観察されています。例外的な誘電率と電気特性の結果として、Pa-Knnt-P（VDF-HFP）複合材料は、さまざまな電子ドメインでエキサイティングな実用的なアプリケーションを見つける可能性があります。

PA-KNNT-P(VDF-HFP) composite films were synthesized using facile solution casting technique. Due to their wide range of applications in dielectric and electrical systems, phosphonic acid (PA)-modified tantalum-doped potassium sodium niobate (KNNT)-polyvinylidene fluoride co-hexafluoropropylene P(VDF-HFP) composite films have piqued the interest of academic researchers. Microstructural analysis showed that PA layers incorporated onto the KNNT particles within the polymer matrix. The PA-KNNT-P(VDF-HFP) composite exhibited improved dielectric and electrical performance over a broad range of frequency, and the value of the dielectric constant of the P(VDF-HFP) composites is improved by ≈119 over the P(VDF-HFP) matrix at a filler loading 19 wt.%. Moreover, PA-KNNT-P(VDF-HFP) composite also reveals higher dielectric constant (≈ 119) and AC conductivity than P(VDF-HFP)-KNNT composites, while maintaining suppressed dielectric loss ([Formula: see text] at 102 Hz). It is also observed that the PA-KNNT-P(VDF-HFP) composite exhibited an insulator-conductor transition with a percolation threshold of fKNNT = 13.4 wt.%. As a result of their exceptional dielectric and electrical characteristics, PA-KNNT-P(VDF-HFP) composites have the potential to find exciting practical applications in a variety of electronic domains.