新興汚染物質の分解のためのG-C3N4ベースの光触媒セルフフェントンシステム：進歩と見込み客のレビュー

産業プロセスにおける新たな汚染物質の排出は、生態学的環境と人間の健康に深刻な脅威をもたらします。光触媒自己フェントン技術は、過酸化水素（H2O2）の現場生成（H2O2）と鉄（Fe）イオンとの相互作用を介して、光触媒とフェントン酸化技術の利点を組み合わせて、多数の強力な反応性酸素種（ROS）を生成して、病院を効果的に劣化させるために生成します。環境で。グラファイトカーボン窒化物（G-C3N4）は、その優れた化学/熱安定性、ユニークな電子構造、簡単な製造、および中程度のバンドギャップ（2.70 EV）により、H2O2生産のための最も潜在的な光触媒酸素還元反応（ORR）光触媒と見なされます。したがって、このレビューでは、光触媒の自己フェントンとその分解メカニズムの利点を簡単に紹介します。さらに、G-C3N4ベースの光触媒セルフフェントンシステムの修正戦略と環境修復における関連アプリケーションについては、詳細に詳細に説明し、要約されています。最後に、G-C3N4ベースの光触媒セルフフェントンシステムの見通しと課題について説明します。このレビューは、新規で効率的な光触媒セルフフェントンシステムの構築と、環境修復やその他の研究分野へのさらなる応用を促進できると考えています。

The discharge of emerging pollutants in the industrial process poses a severe threat to the ecological environment and human health. Photocatalytic self-Fenton technology combines the advantages of photocatalysis and Fenton oxidation technology through the in situ generation of hydrogen peroxide (H2O2) and interaction with iron (Fe) ions to generate a large number of strong reactive oxygen species (ROS) to effectively degrade pollutants in the environment. Graphite carbon nitride (g-C3N4) is considered as the most potential photocatalytic oxygen reduction reaction (ORR) photocatalyst for H2O2 production due to its excellent chemical/thermal stability, unique electronic structure, easy manufacturing, and moderate band gap (2.70 eV). Hence, in this review, we briefly introduce the advantages of the photocatalytic self-Fenton and its degradation mechanisms. In addition, the modification strategy of the g-C3N4-based photocatalytic self-Fenton system and related applications in environmental remediation are fully discussed and summarized in detail. Finally, the prospects and challenges of the g-C3N4-based photocatalytic self-Fenton system are discussed. We believe that this review can promote the construction of novel and efficient photocatalytic self-Fenton systems as well as further application in environmental remediation and other research fields.