極端な紫外線虫の候補材料としてZrsi2を研究する

極端な紫外線（EUV）ペリクルは、暴露プロセス中にEUVマスクを汚染から保護するレチクル表面からのスタンドオフ距離にある超薄膜です。EUVペリクルは、徐々に増加するEUVソースパワーに耐えることができる、高いEUV透過率、低EUV反射率、および優れた熱機械耐久性を示さなければなりません。この研究では、光学シミュレーション結果に基づいてEUVペリクル要件を満たすために、光学定数の最適な範囲を提案しています。これに基づいて、光学的および熱力学的要件を満たすと予想されるジルコニウムの排尿（ZrSI2）がEUVペリクル候補材料として選択されました。共球体を介して堆積したZRSI2薄膜を含むEUVペリクル複合材が製造され、その熱、光学、および機械的特性が評価されました。Zrsi2薄膜の厚さの増加とともに、放射率が増加しました。測定されたEUV透過率（92.7％）と、製造されたペリクルの反射率（0.033％）がEUVペリクルの要件を満たしました。ペリクルの究極の引張強度は3.5 GPaでした。したがって、EUVペリクル材料としてのZrsi2薄膜の適用可能性が検証されました。

An extreme ultraviolet (EUV) pellicle is an ultrathin membrane at a stand-off distance from the reticle surface that protects the EUV mask from contamination during the exposure process. EUV pellicles must exhibit high EUV transmittance, low EUV reflectivity, and superior thermomechanical durability that can withstand the gradually increasing EUV source power. This study proposes an optimal range of optical constants to satisfy the EUV pellicle requirements based on the optical simulation results. Based on this, zirconium disilicide (ZrSi2), which is expected to satisfy the optical and thermomechanical requirements, was selected as the EUV pellicle candidate material. An EUV pellicle composite comprising a ZrSi2 thin film deposited via co-sputtering was fabricated, and its thermal, optical, and mechanical properties were evaluated. The emissivity increased with an increase in the thickness of the ZrSi2 thin film. The measured EUV transmittance (92.7%) and reflectivity (0.033%) of the fabricated pellicle satisfied the EUV pellicle requirements. The ultimate tensile strength of the pellicle was 3.5 GPa. Thus, the applicability of the ZrSi2 thin film as an EUV pellicle material was verified.