ナノ粒子の補体オプソニン化の測定のためのドットブロット免疫測定の検証

補体は、ナノ材料に対する免疫反応において重要な役割を果たします。異物表面への補体攻撃により、C3の堆積、C3コンバーターゼのアセンブリ、アナフィラトキシンC3AおよびC5Aの放出、最後に、膜攻撃複合体C5B-9の形成が生じます。さまざまなテクノロジーは、流体相の補体活性化マーカーを測定できますが、表面C3堆積の測定はあまり一般的ではありません。以前は、超遠心分離ベースのドットブロット免疫測定法（DBI）を開発して、ナノ粒子上のC3およびその他のタンパク質コロナ成分の堆積を測定しました。ここでは、DBIの再現性と、経路特異的および共通の流体相マーカーとの相関関係を検証します。さらに、潜在的な制限に対処しながら、費用対効果や汎用性など、DBIの利点について説明します。この研究は、ナノスクールレベルでの補体活性化に関する洞察を提供し、この分野のナノ医学研究者に貴重なツールを提供します。

Complement plays a critical role in the immune response toward nanomaterials. The complement attack on a foreign surface results in the deposition of C3, assembly of C3 convertases, the release of anaphylatoxins C3a and C5a, and finally, the formation of membrane attack complex C5b-9. Various technologies can measure complement activation markers in the fluid phase, but measurements of surface C3 deposition are less common. Previously, we developed an ultracentrifugation-based dot blot immunoassay (DBI) to measure the deposition of C3 and other protein corona components on nanoparticles. Here, we validate the repeatability of the DBI and its correlation with pathway-specific and common fluid phase markers. Moreover, we discuss the advantages of DBI, such as cost-effectiveness and versatility, while addressing potential limitations. This study provides insights into complement activation at the nanosurface level, offering a valuable tool for nanomedicine researchers in the field.