半導体健康研究における化学物質への個人的な暴露を推定するためのアルゴリズム

半導体産業労働者の一連の疫学研究における曝露評価のために、選択された化学物質への潜在的な個人的暴露の推定値が、一連のアルゴリズムを使用して開発されました。各エージェントへの労働者の総曝露は、そのエージェントを使用して各タスクのタスクスコアの合計として定義されました。タスクスコアは、各タスクの強度と周波数スコアとして計算され、ターゲットエージェントの存在度とそのプロセスに存在する排出制御の程度を表すプロセス固有の排出係数を示す因子によって変更されました。アルゴリズムは、複数の情報源を使用して、各ワーカープロセスエージェントの組み合わせの露出スコアを生成しました。次に、露出スコアを、疫学分析で使用するために、曝露の順序カテゴリ（0-3）に配置されました。

For exposure assessment in a series of epidemiologic studies of semiconductor industry workers, estimates of potential personal exposures to selected chemical agents were developed using a set of algorithms. A worker's total exposure to each agent was defined as the sum of task scores for each task using that agent. Task scores were calculated as the intensity and frequency score for each task, modified by a factor indicating degree of presence of the target agent and a process-specific emission factor representing degree of emission control present for that process. The algorithms used multiple sources of information to generate an exposure score for each worker-process-agent combination. Exposure scores were then placed into ordinal categories of exposure (0-3) for use in the epidemiologic analysis.